Flens 7E-8 van KYKY Ion Vacuum Pump DN150CF Goedgekeurd Ce van de Pa Uiteindelijk Druk

Ionenpomp, 3L-100, DN150CF, 110L / s Lucht, 24L / s Ar, -5KV, 2.7E-8Pa

Sputter-ion pomp is apparatuur voor het genereren van vacuüm voor het verkrijgen van schoon en ultrahoog vacuüm. De sputter-ion-pomp is de hoofdpomp met olie, minder ultrahoog vacuüm-set. De ionenpomp werkt in een gesloten systeem waarvoor geen continue werkende steunpomp nodig is.

Beginsel:

Materiaal van anode is roestvrij stalen vat, en materiaal van kathode istitaniumplaat. Penning-ontladingsprocessen ioniseren gas onder de gezamenlijke werking van magnetisch veld en elektrisch veld, waardoor aldus het afvoeren van gas wordt gerealiseerd.

Triode-ionenpomp is verbeterd voor het verhogen van de pompsnelheid voor inert gas; ionen van inert gas worden onderworpen aan graasinval in het titaniumrooster van de kathode, vervolgens geneutraliseerd en gereflecteerd naar de pompwand en anode om begraven te worden met de titaniumfilm. Omdat inert gas dat in de pompwand is begraven niet zal worden vrijgegeven vanwege een positief ionenbombardement, neemt de pompsnelheid voor inert gas toe.

voordelen:

Deze serie pomp heeft voordelen zoals netheid, hoog vacuüm, nulruis, trillingen nul en bedieningsgemak.

toepassingen:

1. Hoge-energie deeltjesversneller

2. Gecontroleerde thermonucleaire reactie-apparatuur

3. Elektrisch vacuümapparaat

4. Halfgeleidermateriaal

5. Elektronische microscoop

6. Massaspectrometer

specificaties: